光刻機，是芯片制造核心中的核心，光刻是半導體芯片生產流程中最復雜、最關鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在于將電路圖從掩模上轉移至硅片上，這一過程通過光刻來實現，光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能水平。芯片在生產中需要進行 20-30 次的光刻，耗時占到 IC 生產環節的 50%左右，占芯片生產成本的 1/3。

荷蘭ASML公司在國際光刻機市場上占據著絕對份額，在高端產品領域更是壟斷市場，企業利潤率非常高。日本尼康與佳能原本是ASML公司的主要競爭對手，但現階段日本尼康在光刻機領域處于持續虧損狀態，正在逐漸衰落，而佳能因虧損已退出高端光刻機市場。荷蘭ASML公司壟斷格局更加明顯。

根據思瀚產業研究院發布的《2019-2024年光刻機行業市場分析及投資策略報告》顯示，2017年，全球光刻機總出貨量中，荷蘭ASML公司出貨占比為69%，在EUV光刻機領域其占有率為100%，在高端光刻機領域其占有率為89%。日本尼康出貨量占比為9%;日本佳能出貨量占比為25%，但佳能的出貨集中在低端產品領域。現階段，全球最頂尖的光刻機是EUV光刻機，即極紫外線光刻機，這種光刻機技術被荷蘭ASML公司獨家壟斷。全球光刻機市場荷蘭ASML公司一家獨大。

我國光刻機研發企業有上海微電子裝備(SMEE)、中子科技集團第四十五研究所、合肥芯碩半導體、先騰光電科技、無錫影速半導體科技五家公司。其中上海微電子技術水平在國內市場處于領先地位，是我國唯一一家可以生產90納米光刻機的企業，代表著我國光刻機產業的技術水平。

我國光刻機產業起步晚，技術水平低，經驗積累薄弱，現階段最先進的光刻機產品是上海微電子的90納米的工藝技術，與荷蘭ASML公司的低端產品處于同一水平。且我國90納米光刻機產品尚未經過晶圓廠的產線驗證，與荷蘭ASML公司量產的7納米EUV光刻機技術相比，差距巨大。

人才是發展光刻機產業的重要因素之一，2017年6月，上海集成電路研發中心與荷蘭ASML公司簽署合作備忘錄，并于2018年5月在上海合作共建了一個半導體光刻人才培訓中心，這是我國第一個世界級光刻人才培訓基地。隨著技術的不斷積累，以及人才逐步到位，我國光刻機行業將進入快速發展階段，但仍有很長的道路要走。

思瀚產業研究院研究人員表示，我國是消費電子產銷大國，計算機與手機的CPU制造都離不開光刻機，而我國的光刻機技術還處于探索階段，取得了一些成就，但仍與國際先進水平相比差距巨大。現階段，全球光刻機市場中荷蘭ASML公司獨占鰲頭，在未來很長一段時間內，我國光刻機仍依賴進口。上海微電子作為后起之秀，技術積累薄弱，未來仍需不斷提高研發水平，突破技術封鎖。

據外媒報道，中芯國際已經訂購了一臺EUV設備，首臺EUV設備購自ASML，價值近1.2億美元。EUV是當前半導體產業中最先進也最昂貴的半導體制造設備，全球僅荷蘭設備商ASML供應。

EUV是未來1x納米繼續走向1x納米以下的關鍵微影機臺，包括英特爾、三星、臺積電等大廠都在爭搶購買該設備。設備供應商ASML曾表示，一臺EUV從下單到正式交貨約長達22個月。

同樣也在緊追1x納米制程技術的華力上海Fab6也正式搬入的首臺ASMLNXT1980Di微影機。這臺微影機是目前大陸生產線上最先進的浸沒式微影機。

長江存儲的首臺微影機也已運抵武漢天河機場，這臺微影機為ASML的193nm浸潤式微影機，售價7,200萬美元用于14nm~20nm制程，陸續還會有多部機臺運抵。

研發光刻機需要大量資金投入。成立之初，由于技術落后和資金不足，加上產業周期性衰退，ASML幾乎陷入破產境地。好在飛利浦及時出手相救，加上公司輕資產戰略，才渡過難關。

1995年公司上市，上市獲得的充裕資金使公司有錢投入研發，同時也讓公司有錢去并購其他公司來完善本公司的技術。這一步非常關鍵，沒有錢什么也干不成。公司正是通過并購獲得掌握了一系列相關先進技術。比如，2013年5月30日完成對光學技術提供商Cymer的收購，為公司量產EUV設備起了決定性作用。

光刻機技術含量極高，ASML因而非常重視研發。公司每年將營業收入的15%左右投入研發，超強研發投入讓公司能適時推出新產品。

光刻機所需零部件多達數萬個，這么多的零部件和核心技術，如果由一家公司來獨立全部完成是不可能的。

ASML的成功并不是偶然的，這是ASML長期數十年努力經營的結果。ASML的成功為中國光刻機企業的發展提供了有益的經驗借鑒和參考。現在中國光刻機企業面臨的處境應該不比當初ASML的處境差，相信中國光刻機企業歷經長期努力后也能取得成功。